搭載最尖端場發射電子(zǐ)光學(xué)系統
将島津EPMA分析性能發揮到極緻
超高(gāo)分辨率面分析
對碳膜上Sn球放大3萬倍進行面分析。即使是SE圖像（左側）上直徑隻有50nm左右的(de)Sn顆粒，在X射線圖像（右側）上也是清晰可(kě)見。
■ 大束流超高(gāo)靈敏度分析
實現3.0μA（加速電壓30kV）的(de)最大束流。
全束流範圍無需更換物鏡光闌。
■ 最多可(kě)同時搭載5通道(dào)高(gāo)性能4英寸X射線譜儀
無人可(kě)及的(de)52.5°X射線取出角。4英寸羅蘭圓半徑兼顧高(gāo)靈敏度與高(gāo)分辨率。
最多可(kě)同時搭載5通道(dào)相同規格的(de)X射線譜儀。
■ 全部分析操作簡單易懂
全部操作僅靠一(yī)個鼠标就可(kě)進行的(de)先進可(kě)操作性。
追求「易懂」的(de)人性化用戶界面。
搭載導航模式，自(zì)動指引直至生成報告。
■ 無與倫比卓越的(de)空間分辨率
EPMA可(kě)達到的(de)最高(gāo)級别的(de)二次電子(zǐ)圖像分辨率3nm（加速電壓30kV）分析條件下No.1的(de)二次電子(zǐ)分辨率。（加速電壓10kV時20nm@10nA/50nm@100nA/150nm@1μA）
■ 二次電子(zǐ)圖像最高(gāo)分辨率3nm
碳噴鍍金顆粒的(de)觀察實例。實現最高(gāo)分辨率
3nm（@30kV）。相對較高(gāo)的(de)束流也可(kě)将電子(zǐ)束壓
細聚焦，更加容易的(de)獲得高(gāo)分辨率的(de)SEM圖像
超高(gāo)靈敏度面分析
使用1μA束流對不鏽鋼進行5000倍的(de)面分析。精确地(dì)捕捉到了Cr含量輕微不同形成的(de)不同的(de)相（左側），同時也成功地(dì)将含量不足0.1%的(de)Mn分布呈現在我們眼前（右側）。
實現微區超高(gāo)靈敏度分析的(de)先進技術
1 高(gāo)亮(liàng)度肖特基發射體
場發射電子(zǐ)槍采用的(de)肖特基發射體比一(yī)般傳統SEM使用的(de)發射體針尖直徑更大，輸出更高(gāo)。即可(kě)以保持其高(gāo)亮(liàng)度，還可(kě)提供高(gāo)靈敏度分析不可(kě)缺少的(de)穩定大電流。
2 EPMA專用電子(zǐ)光學(xué)系統
電子(zǐ)光學(xué)系統，聚光透鏡盡可(kě)能的(de)接近電子(zǐ)槍一(yī)側，交叉點不是靠聚光透鏡形成，而是由安裝在與物鏡光闌相同位置上，具有獨立構成與控制方式的(de)可(kě)變光闌透鏡來形成交叉點的(de)（日本專利：第4595778号）。簡單的(de)透鏡結構，既能獲得大束流，同時全部電流條件下設定最合适的(de)打開角度，将電子(zǐ)束壓縮到最細。當然是不需要更換物鏡光闌的(de)。
3 超高(gāo)真空排氣系統
電子(zǐ)槍室、中間室、分析腔體之間分别安裝有篩孔（orifice）間隔方式的(de)2級差動排氣系統。中間室與分析腔體間的(de)氣流孔做(zuò)到最小，以控制流入中間室的(de)氣體，使電子(zǐ)槍室始終保持着超高(gāo)真空，确保發射體穩定工作。
4 高(gāo)靈敏度X射線譜儀
最多可(kě)同時搭載5通道(dào)兼顧高(gāo)靈敏度與高(gāo)分辨率的(de)4英寸X射線譜儀。52.5°的(de)X射線取出角在提高(gāo)了X射線信号的(de)空間分辨率的(de)同時，又可(kě)減小樣品對X射線的(de)吸收，實現高(gāo)靈敏度的(de)分析。
